二手 ELECTROMASK / TRE 251CC #9288863 待售
网址复制成功!
单击可缩放












ID: 9288863
Pattern generator
Stand alone
With (3) microns
Plate sizes: 3x3" to 8x10" Glass
Step sizes: 0.395 x 0.395"
Wave lengths: 365 nm and 405 nm used for Mercury arc lamps.
ELECTROMASK/TRE 251CC是一种尖端的口罩生成和生产设备,旨在帮助制造商和制造商高效地创建用于各种应用的光口罩。该系统具有生产就绪工作流程和高级数据准备功能,可创建各种尺寸、材料和形状的详细、准确的光掩码。它配备了TRE 251CC溅射装置,其沉积速率可达100纳米/秒,最窄线宽为20纳米。这允许精确蚀刻光掩模图桉,为高级应用程序创建复杂的细节。ELECTROMASK 251CC使用高级模式准备和操作软件来创建各种掩码,从自定义形状到详细的掩码,从而能够在单个运行中快速创建掩码。它还利用掩码管理软件帮助管理生产和工作流,同时减少错误。此外,该机器还集成了一个基于Web的用户界面,用于远程访问和使用,允许对生产进行远程控制。251CC还具有强大的微波电源,能够产生高达1000瓦的功率,并具有数字显示屏以加快蚀刻和沉积速率。它有一个可选的内联计量工具,可以用来确保精确的模式,以及一个多真空源蚀刻控制和均匀性。此外,资产的模块化设计可以方便地安装和维护。总体而言,ELECTROMASK/TRE 251CC是一种创新且强大的掩模生成和生产解决方桉。其先进的特点,包括高精度的沉积率、精密的蚀刻和图桉准备能力,以及尖端的软件和用户界面设计,使其成为高品质口罩生产的理想选择。制造商和制造商可以从其易用性和获得先进的、业界领先的技术中获益,帮助他们优化生产过程,并实现更高效、更具成本效益的光掩模生产。
还没有评论