二手 ETEC 4500F #152934 待售

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ETEC 4500F
已售出
製造商
ETEC
模型
4500F
ID: 152934
Mask generation system.
ETEC 4500F Mask Generation&Production Equipment是一个战略发射系统,使半导体制造商能够生产质量优越、成本低廉的光掩模。它以先进的光刻平台为基础,提供卓越的打印分辨率、高精度和卓越的缺陷检测。该装置采用最先进的四颚步进运动机器,用于精确、开放的视场运动,从而能够精确定位标线和遮挡阶段。加载和卸载分期功能是完全自动化的,可以方便和无错误地加载和卸载标线。该工具结合了先进的测量资产,有助于提高光掩模的精度。其多感应源传感器有助于检测中低频缺陷,有助于优化缺陷检测精度。此外,该型号还提供了一个可选的高精度对齐工作站,用于模内对齐和监控光掩模打印。4500F Mask Generation&Production Equipment还提供了广泛的数据输入/输出选项。其高速以太网接口允许用户快速传输高分辨率数据。此外,系统还包括一个高级、安全的数字图像传输(DIT)单元,允许用户将数字数据从本地生产环境移动到工作中心,从而消除了手动交付数据的情况。此外,该机器还支持多种用于创建掩码和输入数据的过程。其内置的QA功能可确保检查所有传入和传出的口罩的准确性和质量,从而确保只交付质量最高的最终产品。它还具有一个自检功能,可实现简单无误的安装。ETEC 4500F口罩生成和生产工具旨在提高生产率和节省成本。从集成自动措施和实时数据监控到一站式生产/验证工作流程,它提供了一整套经济高效的解决方桉,可提高生产率。最后,该资产可用于轻松快速地生产印刷品或制造大批量生产运行。
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