二手 ETEC Mebes 4000 #9412599 待售

ETEC Mebes 4000是一种先进的口罩产生和生产设备，用于制造亚微米电子和基于MEMS的元件。它具有高精度晶圆曝光系统、自动晶圆打印单元和高分辨率光掩模检测机。先进的晶圆曝光工具允许对曝光区域进行精确和可重复的平版印刷图样和成像。该资产包括一个高分辨率衍射图样和螺旋桨，能够准确控制边缘边界和图样方向的暴露。曝光过程中非常精细的准确性和可重复性有助于减少成像过程中出错的可能性。自动晶圆打印模型是一种完全集成和自动化的晶圆打印设备，能够快速、高分辨率地打印并准确地将成品图桉放置在基板上。该系统具有最先进的自我对齐蒙版对齐单元,确保打印图样的精确打印和放置。最后，Mebes 4000中包含的高分辨率光掩模检测机允许检查成品光掩模是否有任何错误或缺陷。光掩模可以以不同的放大率和光强度进行检查，从而能够精确检测缺陷。总之,ETEC Mebes 4000为亚微米电子产品和基于MEMS的组件提供了高级掩码生成和生产功能。它将高分辨率衍射图样和prober、自动化晶圆打印工具以及高分辨率的光掩模检查功能整合到高度可重复、精确和集成的资产中。