二手 ETEC Mebes 4500-5500 #9081928 待售

ETEC Mebes 4500-5500是为大批量、高质量的光掩模制造工艺而设计的掩模生成和生产设备。该系统利用电子束和光学成像技术创建高分辨率光掩模。该单元的核心是它的高分辨率电子束写入（EBW）机器，它利用一个自动化的电子束柱来生成设备制造中使用的光掩码。E-Beam工具的最大扫描速度高达1000万点/秒,使用的光束大小为6到30 nm。这允许创建具有提高分辨率和减少粒子污染能力的极其精确的光掩模。此外,该资产还配备了自动Vamis DLP（数字光处理）光学曝光单元,支持标准光刻分辨率级别（5 µm min）和多种增强分辨率。Mebes 4500-5500除了具有高分辨率功能外,还具有多项旨在提高速度和生产率的功能。其中包括先进的机器人基板处理模型、可调节的激光制导定位设备，以及具有自动检查和手动扫描能力的快速光掩模检查系统。总体而言,ETEC Mebes 4500-5500是一个极其先进和可靠的口罩生成和生产单元,可提供精确、速度和精度。它的特点使它能够创造出符合严格规格的高质量光掩模，并将颗粒污染降至最低。这使其成为大容量应用程序的理想选择,并且是升级制造过程中光刻功能的经济高效的解决方桉。