二手 ETEC Mebes 4500-5500 #9081929 待售

ETEC Mebes 4500-5500是一款创新的口罩产生和生产设备。这种坚固的掩模生产系统提供了用于微米或亚微米光刻的自动化高分辨率光掩模。它为浅层沟槽隔离、互连开发和生产线IC制造后端等过程提供优质的CD均匀性和无缺陷的掩码。该单元提供了一系列支持灵活和经济高效生产的功能。其中包括高速激光扫描仪和工作室，可实现高分辨率和高精度的掩模对准；一种软件控制的蚀刻机，可制造具有高CD均匀性和优越图样均匀性的口罩；完全可编程的冲压和成形工具,能够高效、精确地制作最终的遮罩模式；一个晶圆处理程序，能够可靠的掩码处理和存储。Mebes 4500-5500利用先进的计算机控制软件资产，提供高效的实时监控。这种精密的模型允许用户监控和控制整个生产过程，包括工艺参数、面罩布局验证和有缺陷的材料筛选。此外，设备还提供了高效的晶片清洗过程，确保在对准过程开始之前保持清洁和一致的掩模表面。该系统为用户提供了一系列好处,包括优化生产效率、高产量、提高晶圆的产量均匀性、显着减少与掩模相关的缺陷以及增加产品收入。再者，该单元还可用于为广泛的技术生产优化的模式解决方桉，如先进的内存产品、微机电系统、集成电子等。最后,ETEC Mebes 4500-5500是一种先进的光掩模生产机器,它为用户提供了许多强大的功能,以产生经济高效、高分辨率的掩模模式。这种精密工具提供了可靠、高质量的结果，是许多半导体制造过程的宝贵工具。