二手 ETEC Mebes 4500 #9087972 待售

ETEC Mebes 4500是为亚微米范围（从0.35µm到10µm）的高质量光刻应用而设计的口罩生成和生产设备。此掩码生成系统为各种应用程序（如DRAM、SRAM、Flash、ASIC和模拟/数字IC）提供卓越的性能。该单元由两个独立的模块组成，它们一起处理和生成掩码。第一个模块Mebes 4500 Mask Generator提供高精度的Mask Pattern发生器，以支持各种基材和复杂设计的先进生产要求。Generator配备了几层电子元件,可为各种制造工艺生成像素完美的掩码。Generator提供了可调工艺参数、轮廓补偿和独特的"标记和测量"算法等功能。第二个模块，ETEC Mebes 4500 Mask Production Machine，是工具的自动化生产侧。它旨在利用其综合计量和图像处理系统使口罩的生产自动化。使用此资产,操作员可以检测蒙版上的缺陷并在打印前进行更正。此外，它还具有许多自动检查和质量控制机制，旨在确保口罩的生产达到高标准。Mebes 4500型号为光刻生产提供了多种优势。例如，设备的加工和生产是快速和准确的，提供精确和可重复的光刻工艺。此外,它还配备了许多基于软件的工具来创建自定义掩码,并优化生产过程。自动检查和质量控制功能还有助于减少生产时间和提高准确性。总体而言,ETEC Mebes 4500系统是亚微米光刻生产的理想设备.凭借其精确的生成和生产能力,该机器为各种IC设计提供了高质量的口罩和优化的生产过程。