二手 ETEC Mebes 4500 #9087987 待售

ETEC Mebes 4500是为生产光掩模而设计的掩模生成和生产设备，是集成电路制造中非常重要的部件。该系统由几个组件组成,包括激光扫描仪、电源、计算机辅助设计（CAD）软件和真空辅助支架。激光扫描仪利用E-Beam技术，利用电子束来定义光掩模的形状。由于电子束非常精确的聚焦和转向能力，这一过程非常精确。此外，激光扫描仪可以产生特征尺寸很小、几何形状复杂的掩模。电源负责提供生产光掩模所需的电源。这种电源有两种形式：直流电（DC）和射频（RF）。直流功率用于在光电导体表面上产生电荷，然后用于将设计绘制到光掩模上。RF功率用于创建"等离子体蚀刻"过程，用于使掩模图样更永久。Mebes 4500单元中使用的计算机辅助设计（CAD）软件非常先进且用途广泛。它可用于生成各种光掩模设计和修改现有设计。CAD软件还允许处理功率和波长等参数，这些参数可用于创建具有特定电气规格的光掩码。最后，真空辅助支架允许在蚀刻过程中将光掩模固定到位，这是确保在生产过程中正确放置掩模所必需的。总体而言，ETEC Mebes 4500是一款高度先进和可靠的口罩生成和生产机器。它具有高精度和小尺寸特性，非常适合生产光掩模，是集成电路制造的重要组成部分。其通用的计算机辅助设计（CAD）软件允许修改光掩模设计,并且真空辅助支架可确保在生产过程中正确放置口罩。