二手 ETEC Mebes 4500 #9087989 待售

ETEC Mebes 4500是一款最先进的口罩产生和生产设备，专为制造集成电路器件而设计。该系统具有优越的广域光刻工具和高速光束写入器,可用于创建尺寸高度精确的掩模。该单元的核心是一个以真空为基础的平台，允许最多放置五个蒙面写作者。这些写入器支持高达16nm的分辨率,并且字段大小为100 mm x 150 mm。专用光学器件和传感器使机器能够创建极精细细节的蒙版。Mebes 4500配备了光束写入器和照片超光刻技术。它利用计算机生成的图样和激光束，创造出比传统技术更高精度和更精细分辨率的金属化边缘。它还包含了专有的透镜系统,以减少像差并提供更好的曝光均匀性。该工具支持多种材料，包括抗蚀剂类型、介电材料和其他先进材料。复杂的掩码写入器可用于创建复杂的特征,而其他高级技术（如弧线缝合和T-Hill求解器）则确保将所需的特征放置忠实地转移到基板上。ETEC Mebes 4500提供具有自动化功能的先进控制系统和硬件组件。该资产具有易于使用的图形用户界面,以及数据传输链接和WLAN连接,允许用户直接从Design House发送作业文件。该模型还附带了广泛的面具书写策略库，为用户提供了全套资源，以确保最大的生产效率。Mebes 4500是要求最高精度的操作的理想选择。该设备的设计目的是提供最大的生产率和最大的效果，最小的模具刮擦，出色的过程稳定性和一致的蒙版质量。技术的结合和行之有效的成功历史使该系统成为工业口罩书写和生产的完美解决方桉。