二手 ETEC Mebes 4500 #9088020 待售

ETEC Mebes 4500是为工业级光掩模生产而设计的高精度掩模产生和生产设备。采用多层沉积工艺，能够生产出分辨率更高的口罩。该系统具有三轴平移级准确定位基板和静止、高分辨率的基板灰度级。这项技术可以精确地形成多个抗蚀层，在基板上有精确的位置和方向。Mebes 4500配备了集成的晶圆处理工具。该工具允许将光掩模以低至0.25微米的分辨率直接打印到所需材料上。它具有极高的吞吐量，允许大量的口罩快速生产。ETEC Mebes 4500能够产生广泛的标准标线和客户指定的标线形状,以及反向和正向模式。不同的图桉可以以不同的精度水平曝光，这对于工业级口罩的生产是必不可少的。该设备还具有高级验证测试功能,以确保产品质量。Mebes 4500的控制机由一个主处理器、多个从处理器和一个可编程逻辑控制器组成。此设计可确保高可靠性和快速操作,从而使流程自动化,而操作员的干预最少。该工具还配备了广泛的配件，如扫描仪和照相机系统，以利于高效的检查和工艺优化。总之，ETEC Mebes 4500是一种可靠、能干的生产资产，提供高精度和提高效率。操作方便，能以更高效、更具成本效益的方式生产出高品质的口罩。