二手 ETEC Mebes 4500 #9396894 待售

ETEC Mebes 4500是一种口罩产生和生产设备，允许大量生产用于制造半导体的高精度光掩模。它采用了基于激光的最新直接书写技术，能够以无与伦比的精度和可重复性实现复杂特征的超高速书写。这一尖端系统能够产生多种复杂的遮罩图桉，尺寸从3 μ m到50 μ m以上不等。Mebes 4500具有四个激光曝光头、二维成像以及地址头、标线级和晶圆/掩模级的运动控制。这样可以确保根据所需的精度要求对掩模图样进行精确的写入、成像、对齐和均匀化操作。此外,该单元还包含一个标线过程优化算法,该算法通过在initically指定的模式序列期间进行调整来提供一致的、可重复的结果。ETEC Mebes 4500的高精度和高度可重复的掩模制造工艺确保了最复杂的设计和最先进的光刻工艺能够实现。这台功能强大的机器能够生产分辨率高达5000个曝光角度的口罩,比传统的照片口罩好6倍。它还拥有令人印象深刻的速度，产生口罩的速度比替代技术快40倍。还包括了许多先进的检测能力，如缺陷图分析、ASML点大小控制和高通量晶圆检测。该工具还支持用于3D结构的晶圆背面操作以及用于超大型掩码的专有图像分割/合并处理。Mebes 4500是口罩制造商的理想解决方桉,它产生的高精度口罩可重复性远远优于任何其他资产。它的激光书写过程确保了最复杂、最先进的遮罩图样的生产无与伦比的精度和速度。