二手 MICRONIC 6D-2V #9259005 待售

MICRONIC 6D-2V Mask Generation&Production Equipment是一种高性能的半导体器件制造解决方桉。6D-2V系统设计用于1至6微米的硅基工艺和应用。它配备了优越的6轴生产平台，保证了产量和吞吐量的最高精度和精确度。它具有独特的掩模对准平台和可独立调节的高级模式对准阶段、用于精确定位掩模的高精度扫描单元以及用于处理多个硬件和软件应用程序的高速掩模对准控制器。MICRONIC 6D-2V机提供了多种功能，旨在增强大容量半导体制造商的运营。它配备了单级晶片到掩模工具，用于工作晶片的直接成像。此功能允许直接成像最大尺寸为50 mm的设备,而无需任何外部跟踪。它还提供了独特的双级晶片到掩码资产,能够为最大尺寸为200 mm的光掩码生成稳定的高分辨率掩码。使用高带宽、低噪声高压放大器，6D-2V模型通过高效、精确的图样图像平移，可实现4微米的曝光精度。改进的光路确保了可靠的吞吐量和最小的返工。其先进的光学设备还提供了每帧高达2000个曝光步骤的广泛动态范围,并具有卓越的像差性能。MICRONIC 6D-2V系统还提供集成的抗反射涂层（ARC）层功能,以确保最高的掩模分辨率和成像精度。它还配备了合规的多层掩模合并，以降低多层成像和检查的成本。多层掩码合并还可确保各层之间的准确定位和正确对齐。6D-2V单元还为2D和3D口罩提供了高速、低噪声的高速口罩检查机。它支持光学图像检测、边缘检测、点线圆检测、假图样图像检测等多种形式的检测报告。利用其高精度对准工具，可以完美实现模式间的配准。MICRONIC 6D-2V资产还配备了各种附加附件,包括存储机柜、多站吸尘器、模式对准调整手动设备、用于口罩对准和维护的工具包以及产品可追踪性模型。它还提供了一个可靠的自动对准单元，允许掩码对准与速度和准确性进行。6D-2V超低热漂移和低振动构造也确保了一个完美的稳定性在长期。MICRONIC 6D-2V设备具有高精度光学、图桉化掩模配准和自动化能力，是领先的掩模生产系统。它为大容量半导体生产提供了出色的分辨率、吞吐量、精度和准确性。