二手 MICRONIC Mach 2 #9258989 待售

MICRONIC Mach 2口罩的生成和生产设备是一种通用、高精度的设备系统,能够为微电子应用创建各种物理口罩。该单元采用光刻和电子束（e-beam）技术，在基板上和通过基板产生和处理口罩。它为原型制作、高产面膜生产和QC/QA操作提供了必要的灵活性和精度。Mach 2具有300 mm晶片级,可使遮罩工作表面沿着机器上的x、y和z轴移动。导航工具精度为0.1 μ m,行进速度高达140 mm/s。它具有标准、多掩码和多步方法的能力。2kW离子源和6轴定位资产允许将各种设备阵列化为直径不超过6英寸的掩码。离子源在使用CF4或Ar离子蚀刻工艺时提供最佳剂量控制。利用自动精密晶片对准模型，MICRONIC Mach 2能够实现多步对准和生产高达150 mm尺寸的掩模。2马赫可用于在单个基板上创建分辨率高达0.35 μ m的物理图像和最大500 μ m的特征大小。为了进行比较和QC/QA过程,MICRONIC Mach 2还将生产掩码图像输出为数字位图（DFT-files）。2马赫正在使口罩的生成和生产更快、更高效、更精确。利用先进的光刻技术和电子束技术，提供了快速的吞吐量和一贯的高精度生产光刻图桉的蒙版。而其处理大工区的能力使其适合原型、生产QA/QC工艺等应用。