二手 QUANTRONIX DRS 840 #9396110 待售

QUANTRONIX DRS 840是一款高性能的口罩产生和生产设备。它是为先进的显微光刻应用而设计的，包括面罩基板和结构的检验、表征和制造。该系统能够产生各种光掩模,从标准的单层掩模到具有精确配准和临界覆盖精度的多层掩模系统。DRS 840是工业规模微光刻的经济高效解决方桉,具有优化吞吐量和降低成本的智能功能。该单元与QUANTRONIX创新套件集成了掩模创作、掩模检查和计量工具。这包括一台功能强大且自动化的掩码创作机器,该机器具有用于精确生成光掩码的高级阵列算法。它配备了一个高度敏感的自动掩模检测站，以快速识别光掩模中的缺陷，以及一个最先进的计量工具，用于深入分析低至亚微米尺度的结构。所有这些元素使用直观的图形用户界面易于操作和控制。QUANTRONIX DRS 840允许广泛的光掩模基板和图样，包括EAA、正、负和MDO（多维OPC）。资产还可以处理范围广泛的现货尺寸,从250 nm到25 μ m。该模型包括一个集成的真空卡盘，允许快速和容易蒙版加载和卸载。它还配备了内置的流程监视器，以确保流程的一致性和可重复性。DRS 840旨在提供一致和可靠的生产过程。它提供2.5秒的快速曝光时间,并配备了自动聚焦和自动校准功能,以确保准确曝光。它还包括一个在线激光监测设备，不断测量激光功率水平和光束质量，并报告任何退化或其他潜在问题。QUANTRONIX DRS 840旨在最大限度地减少浪费、降低成本和优化吞吐量。它提供了自动掩模级基板控制、自动曝光重复性和自动污染检测功能。它还包括一套高度可配置的软件工具，允许用户模拟曝光和分析复杂的光掩码模式。该系统具有工艺控制能力，为用户提供了针对不同材料和基材需求定制工艺的灵活性。DRS 840是先进光掩模生产的绝佳选择。其先进的特性和精密的自动化使得它成为任何工业规模的显微光刻操作的理想选择。它提供了生产复杂的光掩模所需的精确度和可靠性,并确保了准确和可重复的生产结果,同时还为工业规模应用提供了经济高效的解决方桉。