二手 TAMARACK 162D #9130935 待售
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ID: 9130935
晶圆大小: 6"
Double sided mask aligner, 6"
Typically for hybrids
Max intensity: 70 mj/cm²
Resolution: 25-35 microns
Inverted split field microscope
(2) Power supplies: 1000 Watts
(2) Lamps: 1000 Watts
Does not include mask / Substrate holders.
TAMARACK 162D是MOCVD Mask Technologies为大批量生产而设计的综合口罩生成和生产设备。它具有复杂的电子束光刻应用的先进设计,具有广泛的掩模生成特性。该系统采用先进的步长和重复掩码生成级,具有精确的电机驱动的XYZ对准和激光对准的目标点。这样可确保在每个阶段都能准确复制掩码。掩码生成软件支持对具有高级分辨率功能的功能进行CAD级操作。这为用户提供了出色的控制和精确的蒙版设计。软件还支持错综复杂的线条间距和多层特征细节等高级复杂性设计。该机利用高通量工艺产生最精密的掩模图桉。它包括快速扫描时间和高分辨率阶段等功能,这些功能允许大规模的掩码阵列。这包括全自动光学定位单元和可变步长等功能。该机支持广泛的曝光,包括激光透镜和电子束。这样可以保证不同的曝光时间和准确性,同时确保最高质量的结果。此外,它还提供多个级别的保护环境和对过程的控制。蒙版生成阶段支持高达12级/自由度的蒙版,以及最小线宽为5微米的0.25微米的精确特征放置。对于口罩生产,它支持多种背衬和基材材料,并具有全光谱的口罩尺寸。该设计还支持多种背面功能。162D专为高速、高分辨率和高批量生产而设计。它的功能为口罩生产提供了经济高效的制造解决方桉,这使其成为希望迅速提高口罩生产能力的公司的理想选择。其先进的设计和处理功能为用户提供了灵活性和控制性,以实现其蒙版设计的高精度和准确性。
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