二手 ZEISS CDC32 #9386127 待售
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ZEISS CDC32是一种先进的掩模产生和生产设备，主要用于半导体芯片制造。它被设计为提供精确的图样和临界迭加精度，使高性能设备的生产具有高产率。其特点包括可直接制图的波长选择激光源、先进的制造和掩蔽技术以及自动化的设备管理和过程监控。蔡司CDC 32系统有三个主要组成部分；直接写入光刻单元，面罩制作和计量机，以及机器自动化工具。直接写入光刻资产是模型的基础，并利用准分子脉冲激光技术在并行结构中直接对芯片晶片进行阵列绘制。这种激光器允许的高能量允许它以5-20nm的精度绘制500 nm的结构。此分辨率非常精确,因此当与现代三维（3D）处理器设计配合使用时,它允许使用复杂的内存体系结构。面罩制作和计量设备同样重要，因为它使创建光面罩的整个过程自动化。它使用最先进的光学断层扫描模块，高速处理整个光掩模的计量图像。然后,此模块对光掩码进行图样绘制和测量,以确保掩码符合设计要求。一旦设计得到验证，系统就被送到生产站进行打印。自动化设备管理单元可确保整个机器以最高效率运行,并完全符合设计规范。它定期自动控制清洁工具，并安排定期校准计量仪器、面罩制作机器和激光。CDC32资产提供了最高水平的设计和阵列精度,使复杂的高性能设计能够以最高的精度进行生产。它是寻求可靠高效的掩模生成和生产模型的芯片制造商的理想选择。
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