二手 ADE / KLA / TENCOR 351 #293605066 待售

ADE/KLA/TENCOR 351蒙版和晶片检查设备是一种高度先进的光学检查系统,用于检查晶片和蒙版是否存在缺陷、污染或工艺变化。由ADE开发的ADE 351单元是半导体制造商确保其微芯片制造过程的产品质量和一致性的有力工具。该机器结合了先进的成像、高速模式识别和复杂的缺陷分类算法来分析整个晶圆区域或分辨率较高的子场,以识别可能存在的任何缺陷。它采用自动化的闭环工具，在晶圆的整个表面上以高分辨率（高达20X1200 mag）检查图样和图像。高级图像处理用于检测颗粒、划痕、图样不连续性和其他物理缺陷以及过程变化。然后自动扫描晶片,并在将缺陷和模式呈现给操作员之前对其进行识别。KLA 351资产具备自动视觉和模式识别功能,可以检查密密麻麻的板材,最小化误报,优化吞吐量和产量。自动颜色选择可确保最复杂的蒙版具有最高的精度和准确性。该模型还支持在装运前对所有受控参数进行掩码级验证和验证。针对半导体制造商高度敏感的需求，TENCOR 351设备还支持先进的污染监测模块，以检测并立即提醒操作员注意任何异常值。反过来，这有助于一旦发现可能的污染问题，确保及时采取纠正措施。此外,相机的分辨率超过1微米,导致前所未有的清晰度。351系统提供了广泛的缺陷检测功能,包括缺陷表征和缺陷大小扫描。阶梯式高架扫描体系结构提供了一致的高分辨率图像,能够快速识别否则很难检测到的表面缺陷。内置缺陷库允许设备快速识别缺陷模式并在发现缺陷时对其进行标记。ADE/KLA/TENCOR 351 Mask&Wafer检验机为半导体制造商提供了一种通用、坚固、可靠的工具,保证其工艺能够无故障地产生最高的质量和产量。ADE 351专为高吞吐量和低成本而设计,提供卓越的质量数据,可用于过程优化和提高产品产量。