二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Complus 4T #9276171 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Complus 4T Mask and Wafer Inspection equipment）是一种用途广泛的自动化系统，专为光掩模和晶圆基板的检验和计量而设计。该单元作为过程步骤的组合，包括缺陷审查、自动模式识别和分类以及自动检测到的缺陷的校正。其直观的用户界面能够有效检查光掩模基板，从1.0 µm小到50 µm大。AMAT Complus 4T Mask and Wafer Inspection machine能够检测和隔离各种缺陷,如线宽、角、间隙和线宽变化。此外，该工具通过使用可调强度设置、坐标、显微镜设置、扫描频率和扫描速度，提供全面的过程控制。通过这些设置,资产能够检测和分析孤立的缺陷和复杂的缺陷,如线端不对称、过度蚀刻和空白区域。APPLICED MATERIALS Complus 4T Mask and Wafer Inspection模型利用一个自动化阶段，用于精确定位晶圆和光掩模基板，以实现扫描的最大精度。这个阶段被耦合到一个整体式物镜，放大范围为10x-60 x，允许检查各种特征尺寸。该设备设有一个校准系统，用于维持扫描设置的准确性，这使得该单元在重复循环中能够保持在0.05 µm以内的准确性。除了生产能力外，Complus 4T Mask和Wafer Inspection机器还支持广泛的缺陷审查选项。这包括用于检查薄膜结构和缺陷拓扑数据的各种图像捕获模式。该工具还具有先进的自动缺陷审查资产，可以根据预设阈值快速分析和分类缺陷。还提供了一个可选的缺陷分析仪来提供额外的缺陷分类和数据分析。AMAT/APPLIED MATERIALS Complemus 4T Mask and Wafer Inspection Model provides a low TCO with colsible explution solutions for mask and wafer inspection.这种设备能够提供高水平的检查准确性和可重复、可靠和方便用户的操作。所有这些组合允许用户同时使用一个集成系统执行掩码和晶圆检查。