二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Complus 4T #9298594 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Complus 4T Mask and Wafer Inspection Equipment是一种用途广泛、紧凑的系统，将mask和Wafer inspection的任务高效地结合在一起。这个单元是专门针对半导体行业的需求量身定制的，提供高吞吐量和成本效率以及无与伦比的图像分辨率。它提供了一套用于掩模和晶片检查以及审查和数据分析的集成技术。AMAT Complus 4T提供了先进的掩模检查能力，包括分辨率增强技术（RET）和光学散射测量（OS）。RET是一种用于测量衍射对掩模图样影响的技术，而OS则测量由掩模图样中的特征引起的二次电子失真。这两项技术相结合,使APPLIED MATERIALS Complus 4T能够提供超过竞争的检查系统的详细程度,从而在掩模图像中实现高水平的不透明度和锐度。对于晶圆检查，Complus 4T提供了一系列创新工具，包括投影实地检查（PFI）和彩色图像分析（CIA）。PFI是一种低成本、快速周转的检查符合要求的光掩码特性的方法。它提供了广泛特征的详细测量，并使用多种算法比较来自多个字段的图像。CIA将光散射测量（OS）与数字成像处理（DIP）相结合，以实现晶圆上任何图样的高分辨率成像。它还允许检测光学污染物，从而能够可靠地检测高产量生产的颗粒或颗粒。AMAT/APPLIED MATERIALS Complus 4T还提供可靠的审查工具，包括自动模式检测（APD）模块。APD模块自动检测掩码和晶圆图像上的关键缺陷,并提供高精度测量。它对于检测当前检查方法可能遗漏的特征特别有用,例如线端断点和难以表征的边。最后，该机还附带了数据分析和报告的综合软件。这包括一个集成的导出工具,允许客户向其他系统或其他邮件客户端发送报告。综上所述,AMAT Complus 4T掩模和晶片检查工具提供了无与伦比的图像分辨率和一套集成技术,用于掩模和晶片检查以及审查和数据分析。此资产确保客户的制造过程符合法规标准,并具有前所未有的详细程度和准确性,使其成为经济高效的半导体生产必不可少的工具。