二手 AMAT / APPLIED MATERIALS SemVision G2 Plus #9280524 待售

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ID: 9280524
晶圆大小: 12"
优质的: 2002
Defect review system, 12" Wafer handling: Loader: AMAT ADO with RFID ETU, 12" ITU, 12" FFU with ULPA Filter SEM Column G2 EDX Column Column tilts: 45 Deg Wafer rotation option Stage wafer holder: 3 PIN Aligner optical microscope 5x, 20x, 100x Pal (On the OTW, cassette / Slot 1: Delta X= 500 μm, Delta Y= 500 μm ITU Repeatability: Delta X and Delta Y < 20 μm Stage accuracy: Delta X and Delta Y < 1.5 μm MTR: Delta X: 50 Delta Y: 30 μm Resolution at 1 KeV: 3 nm Focus map / focus offset: 90% defect with Delta Z < 3 μms Automatic defect offset / XY Map: 95% defects with Delta X < 1.5 μm and Delta Y < 1.5 μm EDX resolution: 4 nm Wafer throughput: 12 Wafers / Hours Defects throughput >1000 Defects / Hour Cleanliness front side: 0.013 PWP / cm² > size at 0.2 μm Largest load ampere rating: 8 A Full load current: 10 A Interrupt current: 10,000 Amps Power requirements: 1-120 VAC, Single Phase, 3 Wire 208 V, 3 Phase, 5 Wire, 50/60 Hz 2002 vintage.
AMAT/AMAT/APPLIED MATERIALS SemVision G2 Plus mask&wafer inspection equipment is a advanced, automated optical inspection (AOI) system designed for semiconduct and display device manistrices.该单元由双激光晶片扫描仪、先进的图像捕获和模式识别算法以及数字特征测量能力组成。AMAT SemVision G2 Plus机器提供卓越的性能,可用于自动光掩码缺陷检测、掩码布局验证和晶圆级缺陷审查,从而实现更快的工艺速度和更高的精度。G2 Plus掩模和晶圆检测工具具有两个高功率激光源,可创建明亮、均匀、均匀分布的光源。与单激光器系统相比,双激光器技术提供了更好的性能,并确保了掩模表面的快速准确成像,并减少了错误缺陷检测。先进的成像技术以像素级分辨率捕获全部和部分图样信息,提供卓越的边缘检测和亮度平衡,并提高整个掩模区域的缺陷灵敏度。APPLICED MATERIALS SemVision G2 Plus资产还具有广泛的先进模式识别技术,包括衍射光学元件(DOE)和使用共面差分成像(CDI)的缺陷检测。内置的检验模板库为用户提供了测试类似掩模和晶片的标准模型,因此检验结果一致且可重现。该模型还可以通过添加定制的光学元件来增强,例如LED或连续波激光器,以及更高的功率水平来改进缺陷分析。SemVision G2 Plus设备改进了多种设备体系结构的可检验性,包括翻转芯片、BGA、晶圆级芯片规模和扇入/扇出封装。它的用户友好界面允许直观操作,并通过屏幕显示实时检测和分析缺陷。G2 Plus系统利用其优化的算法和先进的测量能力,有助于提高生产率和提高质量保证,从而获得最大的产量。
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