二手 ASM IBE 139 #293637824 待售

ASM IBE 139是为大容量半导体制造商设计的掩模和晶圆检测设备。该系统基于晶圆映射布局算法,使其能够同时精确映射和检查许多元素,如静电放电断层扫描图像、光掩码缺陷检测图像、模具级位置映射等。该单元融合了几种新颖的特点，使其适用于大批量生产、缺陷分析和故障定位等多种应用。ASM IBE139机由两个主要组件组成。第一个组件是接口模块,它包括成像摄像头、分束器、显微镜、CPU和图像处理单元。此模块连接到图像预处理DSP,用于晶圆上的高分辨率成像和缺陷检测。第二个组件是Imaging&Pattern Generation Module,它使用自定义专有软件来控制半导体晶片上的成像和缺陷检测。软件使用模式识别算法快速分类监控步骤之间的缺陷并识别任何异常。该软件还可用于对图像进行高级分析和构建详细的统计报告。IBE 139工具支持高分辨率成像，每晶圆最多可成像2,000点。它使用红外和蓝色光源，检测像素化图像中的缺陷。该资产还配备了高分辨率显微镜，允许2D和3D成像以及缺陷检测。此外，立体视觉模型能够检测和处理三维缺陷。除了成像，设备还提供各种其他功能。它可以识别、测量和表征静电放电、光掩模缺陷检查、模具级位置映射以及热点、烧伤和其他故障事件。该系统还可用于编码、跟踪、掩蔽和重构晶圆的数据。它支持SIMS分析，可用于晶圆缺陷的详细表征。此外,它还可以实时复制图像,从而实现在线目视检查,以获得最高的准确性。该单元还包括一个用于比较的标准图像库，并有一个快速学习算法，使快速模式识别。最后,计算机具有高度可定制的用户界面,允许用户根据需要配置其设置。有利于大批量，引导用户设置阈值等检查参数，让数据快速分类。总体而言,IBE139工具提供了一个全面的掩模和晶圆检测解决方桉.它提供高分辨率成像功能和高级模式识别功能,以快速准确地检查和识别缺陷。此外,它还具有一个可自定义的用户界面,使用户能够调整资产的设置以适应其各自的要求。