二手 ASM IBE 139 #9266246 待售

ASM IBE 139是一种用于检查半导体制造中使用的标线和晶片的掩模和晶片检验设备。它采用了灵敏的高速成像扫描系统，旨在检测常规和极端紫外线（EUV）掩模和晶圆图像中的粒子级缺陷和非均匀性问题。该单元由两个部分组成：一个装有投影透镜机的检验光学器件和一个检验软件。投影镜头工具由DUV镜头、间隔镜头和成像相机组成。DUV透镜用于创建要检查的掩模或晶片上图桉的均匀且未失真的图像。间隔镜头能够放大和调整图像到扫描资产的视野。成像照相机捕捉图像，能够检测到粒子大小的缺陷。检查软件由几个算法模块组成，每个模块设计用于检测各种类型的缺陷和非均匀性问题。这些包括校准精度差异、线宽和缺陷检测。软件是自动化的,能够检测多个掩码级别的缺陷。它还利用模式识别技术来检测小规模的粒子级缺陷。该软件设计方便用户，包括报告和数据导出功能。ASM IBE139是一种先进的检测模型。它旨在检测广泛的掩模和晶圆应用中的粒子级缺陷。其高速成像扫描功能和自动检测算法为优化过程效率和质量控制提供了先进的解决方桉。IBE 139是一种经济的解决方桉,它为半导体制造提供了必不可少的工具。