二手 ASM IBE 139 #9396619 待售

ASM IBE 139掩模和晶片检验设备是一种先进的工具,旨在使半导体制造商能够快速准确地检测和识别其产品中的缺陷。该系统专门的光学和电子显微镜技术允许在肉眼看不见的水平上观察几何细节，独特的基于图像的缺陷识别任务使得能够快速自动检测光掩模和晶片中的缺陷。该单元由光学成像阶段和电子成像阶段两个主要组成部分组成。光学成像阶段使用数码相机提供照明、成像和检测功能。它能够将光学特性放大到1000倍,从而实现识别缺陷所需的高分辨率成像。此外，光学成像阶段还配备了具有单色CCD功能的全彩色数码相机传感器。这使机器能够快速准确地捕获彩色和单色图像。电子成像阶段由一个创新的电子束检测工具（EBIS）和一个扫描电子显微镜（SEM）以及相关的元件组成。EBIS用于捕获缺陷图像并生成用于缺陷识别的显微照片。它配备了电子束扫描（EBS）资产和全自动缺陷分类过程。该模型能够从极小的区域获取图像，测量小到几纳米，允许精确检测甚至最小的缺陷。另一方面,SEM提供放大倍数可达50,000倍的电子光学图像。它配备了自动缺陷识别设备,能够识别从表面和地下特征到线路方向误差和开放/短缺陷的各种缺陷。再者，ASM IBE139 Mask和晶圆检查系统也与一系列数据分析软件程序兼容，如知名的ImageJ。这使用户能够快速、轻松地组合光学和电子成像阶段的图像,并将其存储在数据库中以供将来访问和分析。ASM还提供了一个常见基材及其相应光学参数的在线数据库，使用户可以很容易地为每个样品确定合适的设置。IBE 139掩模和晶片检查组是一个高效和可靠的工具，旨在便于检测和分析半导体产品中的缺陷。其高分辨率成像功能和自动化缺陷识别系统使用户能够快速准确地识别和分类缺陷。此外,它与第三方软件程序的兼容性,以及其广泛的底物数据库,使其成为任何半导体制造商的宝贵资产。