二手 ASM TLB 139 #9299469 待售

ASM TLB 139是一款功能强大、用途广泛的掩模和晶圆检测设备。它是对半导体生产流程缺陷表征的综合解决方桉。该系统可以快速识别晶圆表面的异常，并使用长工作距离显微镜设计测量发现的缺陷深度。此外，它还可以在晶圆水平上测量用于IC生产的掩模的厚度。TLB 139具有高达2000倍的高放大倍率,能够以极高的精度和精确度检测口罩和晶片上的小特征。该装置配有两个成像照相机：一个面罩照相机和一个晶圆照相机。遮罩相机是为遮罩的高分辨率成像而设计的，而晶圆相机则在大视野中捕捉晶圆表面缺陷的微观图像。本机利用内置的光学模式识别算法提供精确的缺陷分析。它可以通过区分背景底物和实际特征来区分潜在缺陷和误报。ASM TLB 139提供了偏振、反射光和透射光等多种观察模式。通过这些各种模式，用户可以观察蒙版材料，通过蒙版看到下面的晶片表面。工具的查看模式也可用于检测明亮基板上难以看到的特征。自动聚焦调整可用于宏观或微观聚焦于给定的兴趣区域，手动电动xy扫描可用于以更小的步骤精确移动显微镜资产，以进行更详细的检查。该模型能够对收集到的数据进行智能和自动化管理,从而能够快速、方便地分析和共享结果。收集的所有数据都存储在共享网络驱动器中,以便进一步查看或进行高级诊断。TLB 139掩模和晶片检测设备还能够加载和保存宏函数,以便将来以不同的设置重复使用或重复使用。这一特点使得该系统适用于不同类型的生产线。