二手 ASML / HMI EP3 #293605104 待售

ASML/HMI EP3是一种自动掩模和晶片检查设备，设计用于识别、测量和纠正半导体光刻中使用的单个掩模或晶片上的缺陷。该系统将扫描电子显微镜（SEM）成像与先进的模式保真度算法和缺陷检测技术相结合，对模式特征和性能进行自动评估。HMI EP3单元具有200kV电子束发生器,具有连接的二次电子和反向散射探测器。它能够收集分辨率高达2nm/pixel的图像,并且具有从0.5到4 mm的视野。它还包括一系列软件解决方桉,以扩展机器的成像能力,从而能够测量关键尺寸、图桉几何形状、间距值,并对掩模和晶圆图像进行定量分析。这些软件工具允许精确的缺陷量化和识别,包括区分缺陷和背景特征的能力。ASML EP3工具还具有三维特征计量功能,允许快速精确的尺寸测量,分辨率可降至50 nm。这是使用多个视图来重建复杂的三维特征的独立图像,从而允许客户从单个图像捕获中测量其晶圆堆栈。EP3资产包括各种识别、量化和纠正缺陷的方法。这些方法包括用于缺陷识别和可视化预期模式与实际模式之间差异的自动模式识别算法。此模型还提供了基于物理的模拟工具,使客户能够了解其过程流程并优化以提高产品性能。最后,ASML/HMI EP3提供了用于分析掩码和晶圆图像以及进行校正以提高其性能的工具。这包括用于掩码和晶片修复的直接写入技术,以及用于修改图像和模式的掩码和晶片编辑软件。HMI EP3提供了一种集成的方法来进行缺陷分析和晶圆/掩码校正,帮助客户降低成本和周期时间,同时保持或改善性能。