二手 CARL ZEISS / HSEB MIT300 #293639397 待售

CARL ZEISS/HSEB MIT300 Mask&Wafer Inspection Equipment是专门为缺陷检测而设计的最先进的系统。使用快速扫描的光学自适应单元，HSEB MIT300能够检测到即使是最微小的缺陷与无与伦比的精度和平坦度比较。这台机器包含一个1600万像素的磁头,它可以捕捉以每秒5000帧的最大帧速率拍摄的镜头,因此非常适合高速扫描应用。相机还包含8.3 µm的像素大小和72 dB的动态范围。此外，该工具能够提供内部光刻和迭加测量，提供最高水平的晶圆生产均匀性测量。该资产还包括一个4英寸的专有光学模型，该模型由具有全帧视野的行星相位光学元件组成。该设备还配备了先进的图像分析算法，能够对掩模和晶片缺陷进行可靠、快速的检测。它还具有一个集成的X/Y级系统，以便在扫描领域快速、方便地定位和检查晶片。此外,其坚固的机械化阶段使设备不易受到来自外部来源的环境振动的影响,因此与市场上的其他系统相比,扫描的准确性更高。为了确保最高的生产率，该机采用了直观的图形用户界面软件，该软件根据掩码和晶圆检查的具体需要量身定制。软件附带了一系列内置缺陷分析和审核工具，如DICE图像增强、Sub-Micron迭加测量、可自定义的通过或失败分类极限路径等等。此外,它还提供实时晶片分析和缺陷检测功能,包括缺陷自动识别、算法缺陷检测和错误缺陷识别。该工具符合ISO和SEMI标准,允许轻柔地处理晶片和掩模。资产也以环保的方式运作，电力要求低。它提供了多种选项和硬件,如ASML和193i扫描系统的光学头、可选的自动报告归档、定制软件解决方桉等等。总体而言,CARL ZEISS MIT300 Mask&Wafer Inspection Model是一种高端设备,具有最先进的检测能力。其先进的光学系统、内置软件和众多附加选项使其成为满足当今缺陷检测要求的理想选择。