二手 DATAPHYSICS OCA 40 #293607248 待售
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DATAPHYSICS OCA 40 Mask&Wafer Inspection Equipment是为精确计量Mask和Wafer而设计的。它提供高分辨率成像，数据捕获和表面特征分析，用于半导体制造质量控制。该系统包括一个运动和控制子系统，包括透镜、激光、三维位置和尺寸计量、精密电动变焦装置，以及跨Z控制和空气轴承级、高速检查运动。光学子系统具有集成的视频捕获、数据采集和分析功能,以及高动态范围照明的使用。成像机配备了多种透镜，便于低至高的放大倍率，允许广泛的成像参数，包括视场、采样距离、像素分辨率和光谱范围。机载分析工具提供数据分析功能,如自动缺陷检测和识别（ADF-R）、有限元建模、自动轮廓跟踪像素计数、面积测量和相关性以及基于3D坐标的配准。该资产还具有自动测量工具，如眼镜和面膜层计量。该模型旨在提供快速、精确和可重复的测量,从而为晶圆制造商提供更快速的评审和更准确的质量保证和产量决策。它具有很高的灵活性，为用户提供了自定义参数和利用多种记录格式进行数据收集的能力。OCA 40支持广泛的图像分析算法和有用的模式识别功能，使用户能够识别潜在缺陷，减少手动检查大量掩码和晶片的需要。该设备采用便携式外形,可与其他生产设备同步。总体而言,DATAPHYSICS OCA 40掩模和晶片检验系统为掩模和晶片检验验证提供了高效、高精度和可重复的测量、功能和功能,使其成为半导体制造行业质量和生产控制的理想工具。
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