二手 ESTEK / KODAK WIS-850 II #168347 待售

ESTEK/KODAK WIS-850 II是用于制造过程控制的全画幅掩模和晶圆检测设备。为定量和定性分析提供了快速、可靠的光掩模和晶片检测。它可以检测各种缺陷，从生产过程相关缺陷到掩模/晶圆制造缺陷，包括颗粒、针孔、颗粒和碳残留物。ESTEK WIS-850 II检查系统结合了高分辨率光学长工作距离显微镜（OLWDM）和高级图像处理算法。图像采集单元以3.5um/pixel的图像分辨率在全视野中捕获晶片和掩码。通过基于GUI的操作,用户可以轻松设置自动掩码/晶圆检查运行、配置操作参数以及查看结果。可以使用实时分析模块对地形、CD和缺陷大小和形状进行测量,该模块在预定义的验收规则内搜索和分类所有晶圆和掩码缺陷。机器提供静态和动态对齐选项。在静态对齐中,对设置点进行筛选以减少搜索时间并提高对齐精度。在动态对齐中，检验工具使用模式识别和匹配算法，实时自动对齐掩模和晶片。KODAK WIS-850 II还设计了高对比度光学检查专用软件，为大规模生产和批处理控制提供了全自动检查方法。此外，该资产具有自校准和自动对焦功能，可针对机器老化进行调整，可以检测和测量图像采集过程中产生的图样和单位的失真。其先进的运动和照明控制能力确保了所有缺陷信息在明场和暗场检测中的准确采集。WIS-850 II型号提供可靠的性能和较高的直通率。它易于使用,具有直观的工具和控件,允许用户快速设置生产运行并优化检查过程。具有高分辨率图像和自动缺陷检测能力，是光掩模和晶圆生产过程控制的理想选择。