二手 HERMES MICROVISION / HMI eP3 XP #9389782 待售

HERMES MICROVISION/HMI eP3 XP设备是一种高性能的掩模和晶圆检测系统，设计用于动态和全面的设备地形后处理分析。该装置采用实时检查和监测晶圆制造过程中的缺陷和过程变量，提供全面的光刻工艺控制。HMI eP3 XP提供了一整套先进的光刻工具，如检查掩模和晶圆地形，以及对准、聚焦和测量。该机具有高放大倍率的光学密封面罩，以及先进的标线和视野的精确覆盖测量。它还提供高速图像捕获,可以精确地捕获高达每秒90帧的图像,而不会影响性能。HERMES MICRO VISIONHERMES MICROVISION eP3 XP具有一种新型的检测工具,利用电荷耦合器件（CCD）成像和激光扫描获得准确一致的测量结果。资产的高度可靠和高效的设计意味着结果是可重复的,即使在具有挑战性的环境中也能得到信任。该模型还包括一系列工具,如自动缩放、特征查找器和模式识别,用于快速识别问题并提出解决方桉建议。此外,eP3 XP允许在扫描的晶圆图样上进行缺陷分析和迭加测量。该设备允许进行自动晶片图样检查,包括表面扫描和体积扫描。模式分析模块将扫描图像与CAD数据结合起来,以检测潜在缺陷,并在问题在电路上可见之前对其进行纠正。最后,该系统提供了一个强大的测量控制台,可以处理大量数据,并提供增强的降噪算法和图像分析工具。总之，HERMES MICROVISION/HMI eP3 XP是一个强大的掩模和晶圆检测单元，提供强大的光刻工艺检测和控制。该机器提供先进的光学和成像功能,以及自动分析和数据处理功能,以准确可靠地测量晶圆地形,并检测和纠正潜在缺陷。