二手 HERMES MICROVISION / HMI eP4 #9281324 待售

HERMES MICROVISION/HMI eP4是用于掩模和晶圆检查的通用工具。它采用基于4K分辨率和高达50倍放大倍率的先进图像处理技术，快速准确地检测半导体掩模和晶片设计中的任何异常，如颗粒污染或线宽和线距变化。这种卓越的图像质量是由其高性能的光学设备实现的，该设备包括长焦深2x4K CCD相机、双可变光电（VPE）照明和可选的光场滤光片。此配置消除了散射和反射光,提供了出色的对比度和灵敏度,同时还提供了整个视野的均匀照明。HMI eP4还具有直观的用户界面，具有交互式触摸屏和视觉教学系统，便于操作和快速故障检测。该单元采用模块化设计,可增强功能和效率,并能够轻松添加可选的横向扫描和粒子/缺陷检测功能。HERMES MICROVISION eP4能够以40晶片/小时的最大速率扫描晶片或掩模的整个表面。它支持多达16种不同的扫描强度，可用于各种应用，如粒子、缺陷和晶体学成像。此外，该机器还配备了缺陷纳米分析库，以快速识别异常元件并支持一致的生产质量。EP4是一种精密可靠的面罩和晶圆检测工具。它提供卓越的图像质量、直观的用户界面和创新的模块化设计,使其成为满足高度技术性和苛刻的检查要求的理想解决方桉。