二手 HERMES MICROVISION / HMI eP4 #9389783 待售

HERMES MICROVISION/HMI eP4是一种采用最先进的成像技术设计的用于高精度纳米技术应用的掩模和晶圆检测设备。该系统提供全面的检测解决方桉，能够检测微米级的缺陷和异常。设备的综合特性使半导体晶片和掩模的缺陷分析能够高效快速，有助于提高产量。该单元在先进的半导体制造和芯片设计中看到了广泛的应用，包括3-D和翻转芯片封装检测、微流体器件检测、掩模检测等等。该机器采用超短的多波长照明和可变光学器件,可实现超高对比度成像,能够检测非常小且难以检测的缺陷。该工具的光学器件配有一个分离的物镜和投影资产、一个主要聚焦物镜和一个自动聚焦跟踪能力，提供广阔的视野和优越的图像深度。利用先进的光学设备,该模型可实现高达10倍的高分辨率成像和图像增强。此外，该工具还具有低音扬声器/高音扬声器照明技术，提供动态范围修改和更好的信噪比。设备的用户界面设计方便导航操作。它包括一个直观的触摸屏显示屏和可定制菜单,可访问所有功能和选项。安装在输入设备上的操纵杆可以方便地操作光学视图和控制设置。该系统还能够在明场和暗场模式下成像样品，提供极好的灵活性。HMI eP4单元是半导体设计制造的绝佳选择。其先进的光学设计和用户友好的界面允许快速、精确、可靠的缺陷分析和掩模检查。该机适用于广泛的纳米技术应用，提供了最高质量的成像和高精度的测量。