二手 IMS 200MH Electra MX #9389231 待售

製造商
IMS
模型
200MH Electra MX
ID: 9389231
E-Beam inspection system.
IMS 200MH Electra MX是半导体制造商的顶级掩模和晶圆检测设备。它具有先进的光学设备和高分辨率成像功能,可以检测半导体器件中的缺陷,并详细分析其在整个晶片中的确切位置。该系统使用精确的激光扫描单元,在高达60mm/秒的扫描区域内,每秒捕获多达2000万像素。它还配备了多种成像模式,如亮场、暗场、偏振光、轮廓分析和相移水平,可检测各种类型的缺陷,包括粒子、方向、划痕、凹痕和桥接。它还具有可以测量线宽、线长和小至16nm的空间等参数的测量算法。它与特征提取算法集成在一起,可以比较掩码和晶片上的模式,从而对产品特征进行精确和可重复的分析。这台机器的设计既易于使用,又考虑速度.它具有图形用户界面,可方便工具的操作、配置和管理,并提供模拟、分析和错误报告功能。资产还通过USB或以太网端口进行控制,从而实现远程操作和控制。该模型设计用于三种不同的模式--连续扫描、区域扫描和手动扫描。连续模式下,设备每小时最多可扫描30个晶圆;在区域扫描模式下,每小时最多可扫描50个晶圆;在手动扫描模式下,每小时最多可扫描10个晶圆。该系统还具有低真空功能,能够评估无颗粒表面,以及在其整个生命周期内提供一致照明的长寿命LED光源。该单元符合VDI/VDE、ESD标准做法和ISO标准。此外,它还具有强大的数据处理功能,可以快速分析大型文件和复杂图像。总体而言,200MH Electra MX是一种先进的掩模和晶圆检测机,适用于半导体制造.它具有高分辨率的成像能力和强大的数据处理能力,允许对半导体器件进行快速而精确的分析和评估。
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