二手 J-MAR 010-3180-012 #9236123 待售

J-MAR 010-3180-012 Mask&Wafer Inspection Equipment是一种针对半导体应用的优化成像解决方桉。该系统对各类基材和材料进行可靠准确的缺陷观测和计量。该单元设计用于检查掩模、晶片和介电层，以及一系列光学图像，如光吸收、反射率、透射率和衍射。它包括三个组件：光学显微镜、光谱滤波器和数码相机。光学显微镜与NA 1.4杆透镜配合使用，该透镜以不同的图像比例和焦点提供基板或材料的高分辨率图像。它还配备了远程照明机，以提高图像的可用性。采用先进的FFT（快速傅立叶变换）方法,改进了对比度、低失真和出色的成像分辨率。光谱滤波器用于从透射光中去除不需要的频率，从而能够以增强的检测性检测尖锐特征。滤波器还提供从可见紫外线（UV）到近红外（NIR）的广泛光谱范围，分辨出大小亚微米图像。数码相机提供了详细的高分辨率图像。它配置了增强CCD芯片，以提高灵敏度和动态范围，从而更好地检测较小的缺陷。相机可以用来捕捉单个图像或长系列图像，允许用户在较长时间内监视和识别精确的缺陷结构。此外，该工具还配备了先进的图像处理工具，如缺陷识别算法、缺陷表征、缺陷分析等。然后对结果进行进一步分析，确定缺陷的根本原因。J-MAR 010-3180-012Mask&Wafer Inspection Asset结合了高级成像功能和重新设计处理工具,提供了高性能、低成本的解决方桉。此模型可用于处理和质量控制应用程序的缺陷检测和表征。010-3180-012面膜晶片检测设备能够提供准确可靠的结果，是一种可靠的面膜和晶片缺陷检测解决方桉。