二手 KLA / ICOS CI 8250 #9103714 待售

KLA/ICOS CI 8250是用于检测和识别半导体和光掩模器件制造缺陷的最先进的掩模和晶圆检测设备。该系统结合光学显微镜（Kreischer-Duncker光学显微镜）等先进技术和先进软件算法，以亚纳米分辨率提供用于检测掩模和晶片缺陷的综合解决方桉。KLA CI 8250的光学元件放置在工作台的正上方,即使是最小的缺陷和污染物也可以近乎即时地检测到。该单元还使用先进的软件算法来识别和分类蒙版和晶片上的缺陷，从而实现更高效的缺陷跟踪和校正。ICOS CI-8250还采用人工智能算法来理解光刻设备的缺陷和非缺陷部件之间的细微差别。这台机器有一个强大的图像分析工具，被设计成易于连接到现有的计算机网络，允许对获得的图像进行复杂的分析。此外,该资产能够捕获各种颜色的缺陷图像,并且放大分辨率高达1400倍。CI-8250模型还包括各种高级诊断工具。这些工具允许验证缺陷的大小和形状,以及对污染物和其他缺陷的诊断。此外，还提供了相位对比度、暗场和明场成像等先进成像工具，以进一步提高准确性和可用性。CI 8250还包括一个直观的用户界面,旨在方便部署和简化整个检查过程。此用户界面允许快速调整检查参数,以更好地适应特定任务和目标。此外，该设备还包括一个分析分析软件，可以生成分析报告，以快速确定趋势和可能改进的领域。总体而言，KLA/ICOS CI-8250是一个全面的掩模和晶片检查系统，旨在快速、高效地提供准确和可靠的结果。这一部门为我们的客户提供了一个功能强大但经济高效的解决方桉,它具有多种功能,旨在简化和改进检查口罩和晶片缺陷的过程。