二手 KLA / ICOS CI-T120 #293812251 待售

KLA/ICOS CI-T120是一种用于半导体工业的掩模和晶圆检测设备，设计用于识别和确定潜在的半导体缺陷。它利用先进的图像处理算法，以极高的分辨率（高达1600万像素的成像能力）分析掩码和晶片的图像。此外,系统还具有六轴晶片级、四轴掩模级和垂直对准灯,可用于特殊任务的高通量成像。此外,它还具有分析模式的能力,如可用于自动评估模具相关线材的接触图像传感器（CIS）,以及可自动测量具有统计意义的数据点的3D几何误差识别的3D结构识别。KLA CI T120还具有集成缺陷审查功能、错误厚膜识别、TFT线路测量和审查、整个芯片的测量（可实现高精度缺陷审查）以及分析潜在故障焊料滴的能力。该设备配备了两种不同的扫描仪，一种是设计用于在曝光前检查蒙版的"蒙版扫描仪"，另一种是"晶片扫描仪"，用于在生产过程中对晶片进行检查和鉴定。蒙版扫描仪使用高功率LED进行照明，并使用两个高分辨率相机捕捉蒙版放大图像进行精确评估。晶片扫描仪包括一台先进的紫外线源和成像机，能够高速捕获和收集整个晶片的图像。ICOS CI T-120能够以极快的数据采集速度提供可靠的内联检查。利用专门为该工具设计的新数据采集技术和算法，提高了成像吞吐量。操作员可以采用综合缺陷检测、特定缺陷类型检测或芯片级检测三种检测方式进行缺陷综合检测。这样就可以快速评估大量数据,而无需投资于其他设备。此外，检查配方可以结合起来，以最大限度地提高效率，减少织带检查和假缺陷乘法。总之,KLA/ICOS CI T-120是一种先进、可靠的掩模和晶片检测资产,具有强大的功能,包括十六兆像素成像、六轴晶片级、四轴掩模级和垂直对准灯,以及接触图像传感器（CIS）等功能分析模式。它可以通过综合检查模式和快速评估大量数据来快速评估缺陷和自动化半导体生产。