二手 KLA / ICOS CI-T130 #9256514 待售

KLA/ICOS CI-T130 Mask&Wafer Inspection Equipment是一个前沿自动检查平台,旨在检查一系列半导体零件,包括Mask和Wafer。该系统使生产工程师能够快速准确地执行缺陷检测、缺陷表征和其他重要任务。具有高级算法和高级自动化的快速处理单元可以对设备进行高度精确和高效的扫描,并提供极其准确和可靠的缺陷分析结果。KLA CI-T130使用3D图像传感器和2D传感器扫描对象的缺陷。3D图像传感器可以检测到所有类型的缺陷，包括划痕、污迹、污染等常规光学技术无法检测到的其他类型的物理损伤。它具有高达30 μ m的高分辨率成像和0.1 μ m的缺陷大小分辨率。2D传感器在掩模/晶片的基板上扫描50 μ m,并测量图样的色差以确定通过或失败。ICOS CI-T130可以检测和识别所有类型的掩模和晶片上的缺陷,包括DRAM、闪存、SOI（绝缘体上的硅）晶片、3D-NAND和其他复杂的半导体器件。该机还支持一系列检测模式，如宏观检测、微观检测、低放大率检测。它的高批量扫描速度使得能够在短时间内对大量物体进行快速可靠的检查。该工具能够进行基于缺陷的分类、数据相关的交叉功能检查和模式匹配。它使用户能够有效地搜索和比较扫描图像，以了解来自多个光源和波长的各种缺陷特性。这可帮助用户准确识别掩码/晶片的任何潜在问题。该资产还具有高级缺陷跟踪功能,使用户能够快速识别和比较重复出现的缺陷模式。总体而言,CI-T130是一种高效可靠的掩码和晶片检查模型,可帮助半导体工程师快速检测和识别掩码/晶片缺陷。它的高级特性和功能有助于快速提供高度准确和可靠的缺陷分析结果。