二手 KLA / ICOS CI-T130 #9304378 待售

KLA/ICOS CI-T130是一种用于检查微电子工业中的半导体掩模和晶片的掩模和晶片检测设备。该系统结合了先进的图像处理软件和先进的光学设备，包括最先进的线扫描相机和光学轮廓传感器。这将创建一个功能强大且自动化的检查解决方桉,提供精确的缺陷分析和快速的结果。KLA CI-T130利用Visiononix Falcon 5V4电子束检测单元提供自上而下和侧视图计量的完整3 D曲面分析。它的四个投影和透镜提供小至0.2微米的图样的0.35微米分辨率成像，而不使用滤镜。这使机器能够准确检测最小缺陷。该工具还配备了高速、超灵敏的线扫描摄像头。这款相机的分辨率为3.5微米，用于缺陷检测，可以捕捉大小结构，图像清晰度极佳。光学轮廓传感器测量接触孔等特征的深度,或检测晶圆或掩模表面上凸起、突出或下切的特征。除了检查功能外,ICOS CI-T130还提供数据比较、缺陷分析和产量分析等功能。采用集成模式匹配算法检测和分类产量临界缺陷.检查资产还提供了用于设置检查和查看结果的图形界面。CI-T130设计易于使用,具有用户友好的图形用户界面和直观的工作流。它还支持多种语言和高级图形功能,以帮助详细简化。它具有精确的舞台定位模型，并且可以扩展与可选的配件湿处理或特殊应用。总之,KLA/ICOS CI-T130是一种先进的掩模和晶圆检测设备,它将复杂的成像和模式匹配算法与先进的光学和3D成像系统相结合,可实现快速、精确的成像。