二手 KLA / ICOS CI-T1X0 #9351871 待售
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KLA/ICOS CI-T1X0是一种用于制造集成电路的掩模和晶圆检测设备。它专门用于检查在IC制造过程中使用的掩模和晶片上形成的模式。该系统由几个组件组成,包括自动模式识别、表面检查、轮廓测量、迭加测量、冷却淋浴和光源。KLA CI-T1X0单元中的自动模式识别用于确定掩模和晶片中是否存在任何缺陷。它检查广泛的特性,如触点、通气、电阻器和电容器。它还在晶片的表面和边缘寻找缺陷和污染物。表面检查用于识别掩模和晶片表面上存在的任何缺陷或异物。这些曲面可以使用明场、暗场和对比度反转技术在放大倍数范围内进行检查。轮廓测量可用于测量掩模和晶片的厚度和厚度变化。这些测量还用于确定各种材料层和基板之间的关系,以及任何空隙或其他不连续性。覆盖测量用于测量在IC制造过程中使用的不同材料和掩模的对齐方式。它还有助于确保不同层正确粘合在一起。冷却淋浴用于在检查过程中保持口罩和晶片的冷却。这有助于降低材料发生热损坏的风险。最后,设计ICOS CI T1X0中的光源来照射不同波长的材料。这允许对掩模和晶片进行详细分析,揭示存在的任何缺陷或杂质。总体而言,KLA/ICOS CI T1X0掩模和晶片检测机是确保使用IC制造工艺生产的集成电路质量的宝贵工具。由于其自动模式识别、表面检查、轮廓测量、迭加测量、冷却淋浴和光源,该工具能够准确检测IC中存在的任何缺陷。
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