二手 KLA / ICOS WI-1500 #9096185 待售
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ID: 9096185
Inspection system
Power consumption:
1000W-HM only
2000W-HM + 1 WI
3000W-HM + 2 WI
Air: 3.0 to 6.0 (absolute) = 80 NI/min
Vacuum: 0.2 bar (absolute)i.e. -0.8 (relative)-90 NI/min
Connection type air: 1/4" male fitting (On machine)
Connection type vacuum: 1/8" male fitting (On machine)
Cable: Single Phase.
KLA/ICOS WI-1500是一种掩模和晶片检测设备,设计用于对半导体器件上的缺陷进行准确可靠的检测。KLA WI-1500系统用途广泛,能够检测多个晶片类型、电容器、电阻器、薄膜以及其他各种设备类型。ICOS WI-1500单元配备了三个折射和反射光学系统,以及一系列串联成像和光谱成像传感器。各种光学器件提供了广阔的视野,以提供整个晶片的完整缺陷覆盖。一对照明源可用,包括明亮的300-Watt Xe/Ne源和CoolLED近红外源。成像传感器以高达0.4微米的分辨率扫描晶片,包括分辨率高达0.15微米的高清检测模式。该机器能够检测各种缺陷,包括污染物、划痕、短路缺陷和针孔。此外,WI-1500还支持自动缺陷信号增强,使其能够检测和读出人眼看不到的微小划痕和微粒。KLA/ICOS WI-1500完全自动化,每小时最多可执行500次晶圆扫描,具体取决于所检查的缺陷类型。它还以最短的安装时间提供快速吞吐量。一种集成的晶圆跟踪工具跟踪晶圆的位置和方向,确保缺陷测量的准确性和可重复性。该资产配备了一套功能强大的工具,用于快速缺陷检测和分类。它具有自动化的分类功能,使经验丰富的操作员能够快速区分误报和真正的盲目缺陷。此外,多层次缺陷分类模型使设备能够根据缺陷的大小和形状快速分类。KLA WI-1500还包括各种数据分析功能,旨在提供对设备性能的宝贵见解,包括光学反射率、金属线粗糙度、侧壁粗糙度、迭加精度和5D对准。除了缺陷分析,系统还可以生成自动报告和复杂的图形,以提供对晶圆性能的详细洞察。总体而言,ICOS WI-1500为掩模和晶片检查提供了一个强大的解决方桉,能够精确检测和分类分辨率高达0.4微米的缺陷。它提供强大的数据分析功能,并可以生成详细的报告和图表,从而提供有关设备性能的宝贵见解。
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