二手 KLA / TENCOR 201 #293651161 待售

製造商
KLA / TENCOR
模型
201
ID: 293651161
优质的: 1988
Mask inspection system 1988 vintage.
KLA/TENCOR 201是一款最先进的掩模和晶圆检测设备,在生产和后期生产过程中为半导体制造商提供高分辨率图像和缺陷识别。该系统旨在简化检查,并能够快速识别掩模和晶圆几何上的缺陷和特征。KLA 201工程单元借助增强的电光和短波长技术组合,在保持高吞吐量和屈服性能的同时,可实现纳米分辨率。该机器由几个组件组成,利用其最新的第三代光学技术的力量。它具有一系列自动视觉系统,可检测掩模和晶圆基板的微小变化,以及缺陷的形成。该工具还能够检查从简单结构到复杂设计的一系列加工基板。资产配备了高分辨率成像模型,能够对缺陷进行精确检测和分类。此外,该设备还包括一个大功率检查光源,以确保对基板的缺陷进行一致和准确的评估。TENCOR 201光学系统还包括用于缺陷识别和过程识别的图像分析和计量软件。它利用先进的模式识别算法来识别可能会遗漏的较小缺陷。此外,该设备还能够识别和分析掩模和晶片的各种特征。这样就可以检测到设备在执行进一步的处理步骤之前可能需要的更正或改进。该机配备了一系列先进的工具和工具,以评估不同的检查。它使用染色和成像分析,以及自动检查,以确保在生产过程的每个阶段都检测到缺陷。这样可以提高总体产量,提供更准确的结果。201面罩和晶片检验工具是半导体公司和晶片制造商的宝贵工具,它提供了可靠的解决方桉并提高了产量性能。其先进的视觉资产和图像分析功能为任何设备的视觉评估和缺陷识别提供了信心。
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