二手 KLA / TENCOR 2131 #293587951 待售

KLA/TENCOR 2131掩模和晶片检测设备是一种多功能系统，设计用于IC（集成电路）掩模和晶片的检测。该单元结合了顶尖的光学成像站和先进的缺陷检测算法，提供了对掩模和晶片的快速、准确和高分辨率的检测。该机设有最先进的光学成像站，配备了多台DCI-LX相机和先进的光源。这些摄像机用于捕捉口罩和晶片的高分辨率图像。光源可以用来收集样品中的散射光，以检测晶圆表面存在不透明的缺陷。该工具的高级缺陷检测算法可用于检测缺失的多晶硅线、侵蚀的通气并在IC掩码和晶片上打开。KLA 2131资产还具有高级数据分析功能。该模型可以自动处理IC掩码和晶片拍摄的图像，以识别模式，检测异常，提取统计信息。这些信息可用于评估IC掩模和晶片的质量并消除潜在缺陷。该设备还可用于测量掩模和晶片上的IC电路的临界尺寸。该系统还能够自动进行晶圆缺陷分类。此功能允许设备自动将缺陷分类为隔离、聚类、线性或扩展。此信息可用于确定缺陷的严重性并确定纠正措施的优先级。TENCOR 2131机器设计用于生产环境,能够以高吞吐量运行。它可以连接到工厂的生产控制工具，这使得它能够实时控制生产线。资产还具有可扩展缺陷存储库,可用于比较当前结果与历史结果。此功能允许更全面地了解IC掩模和晶片上的缺陷。2131 mask&wafer检测模型是一种先进而有力的IC mask和wafer检测解决方桉。它结合了顶级光学成像站、先进的缺陷检测算法和自动晶圆缺陷分类，提供了快速准确的结果。该设备还具有可扩展的缺陷存储库,并且可以连接到生产控制系统,从而使其能够以高吞吐量速率运行。