二手 KLA / TENCOR 2131 #293820148 待售

KLA/TENCOR 2131 Mask and Wafer Inspection设备是利用先进的模式识别技术检测和分析晶片缺陷的晶片缺陷检测平台。它是一个用于标线和晶片制造的综合平台,可以快速识别缺陷到最小的区域,包括常规和超高分辨率。该系统具有精选的高级功能,以确保准确、快速和高效的缺陷检测。该单元包括一台高分辨率光学显微镜和一台数字成像机以实现最大精度，具有大面积覆盖和高吞吐量的高速扫描能力，以及一台用于快速数据处理和分析的专用工业计算机。该工具还提供了高级光谱分析来检测假缺陷和假阴性，并且可以配置为运行各种特定的缺陷分析算法。资产还包括一个全面的缺陷分析界面，以便对结果进行详细的审查和分析。其中包括可用于识别和分类缺陷的图表、图表和图像。自动化缺陷分析、扫描阈值调整和错误缺陷分析也可用于简化流程。总体而言，KLA 2131 Mask和Wafer Inspection模型的设计提供了精确度、速度和效率的无与伦比的组合。先进的扫描技术和详细的缺陷分析功能相结合,使其成为集成电路前端和后端制造等广泛应用的理想选择。其可靠的性能和容易集成到现有系统中也使其成为晶圆缺陷检测的一个有吸引力的选择。