二手 KLA / TENCOR 2131 #293824933 待售

KLA/TENCOR 2131是一种为半导体制造商设计的面罩和晶圆检验设备，以保证高质量的产品。它利用先进的光学显微镜技术在晶圆和掩模水平上提供20纳米分辨率。该系统由几个子系统组成，包括一个先进的光学子系统、一个运动控制子系统、一个控制和测量子系统以及一个样本处理子系统。该单元的核心是先进的光学子系统，它由几个组件组成，包括精密光学机器、图像采集工具和图像分析资产。精密光学模型使用高质量的显微镜物镜透镜来提供样品的高分辨率图像。图像采集设备能够对样本进行单次或多次扫描,并且可以提供框扫描和线路扫描。图像分析系统用于检测掩模和晶圆级的缺陷。运动控制子系统负责对光学子系统在样品上的位置进行精确控制。它由几台高精度电动机和控制器组成，这些电动机和控制器允许设备进行微调，以便提供高度精确的结果。控制和测量子系统用于控制整个单元，并从被检验样品中捕获测量值。它由几个单元组成，包括中央处理单元、数据存储机、显示器和输入设备。数据存储工具存储光学子系统捕获的图像,供以后查看和分析。显示和输入设备为操作员提供了对资产的反馈和控制能力。样品处理子系统负责将样品放入模型中,然后在检查完成后将其移除。它由几个组件组成，包括一个拾取和放置子系统、一个示例传输子系统和一个示例处理子系统。取放子系统将样品放到设备的舞台上。样品传输子系统负责将样品移动到所需位置进行检查。最后，样品处理子系统负责根据所需的过程准备样品以供检查。总之，KLA 2131是一种专门为半导体工业设计的掩模和晶圆检测系统。它使用先进的光学、运动控制和样品处理系统,以便在掩模和晶圆级别上提供20 nm分辨率。该装置可靠、高效，为任何半导体制造工艺提供了快速、准确的结果。