二手 KLA / TENCOR 2131 #9158749 待售

KLA/TENCOR 2131 Mask&Wafer Inspection设备经过设计，为半导体制造中的mask和wafer inspections提供高精度、高审查能力和可重复的结果。这一自动检查系统能够每小时检查多达70,000个掩模和晶片，并利用5英寸FOV准直激光光学器件和基于CCD的成像单元，分辨率为每像素1微米。KLA 2131 Mask&Wafer Inspection机器配备了强大的图像处理算法，能够快速准确地检测和识别小至0.2微米的缺陷。此工具还包括一些内置功能以确保质量,例如实时对齐和自动对焦。此外，该资产还配备了高性能基于视觉的缺陷检测模型，能够对面膜和晶片进行缺陷、污染和设备部件的审查。TENCOR 2131 Mask&Wafer Inspection system的设计使得多平台、质量控制工具和不同类型的设备易于集成。该单元与一系列集成缺陷审查和故障表征工具兼容，如缺陷审查计算机、质量控制工具和电气测试系统。2131机器还同时支持多个掩码和晶片，从而可以更快地查看大型晶片和掩模集。此外,该工具还具有数据管理资产,能够快速准确地审查和解决缺陷数据,从而提高了检查过程的效率。该模型还提供了几种监测和报告功能，例如进程监视器，它实时提供了整个掩模和晶圆检查过程的综合视图。设备还包括一个高级控制（HLC）软件，可以定制以满足不同的制造要求，并提供最高级别的缺陷审查准确性。总体而言,KLA/TENCOR 2131系统为掩模和晶片提供快速、准确的检测,并具有可重复的结果,能够与一系列缺陷审查和故障表征工具集成。该单元还具有强大的图像处理算法、数据管理机器以及一系列确保高缺陷精度的监控和报告功能。