二手 KLA / TENCOR 2131 #9236722 待售

KLA/TENCOR 2131掩模和晶圆检验设备是为生产多种材料和几何形状的半导体元件和器件而设计的最高精度和灵敏度。利用先进的光学和数字图像处理，这种高科技机器能够在制造阶段可靠地检测最小缺陷和过程异常。该系统能够根据用户的要求完成各种晶圆和掩模检查和测量，包括薄膜光掩模检查和薄膜厚度、透明度、线性和厚度均匀性的测量。KLA 2131的光学器件设计用于检查各种具有特殊灵敏度的掩模特征和参数。这些特征和参数包括微观的亚微观特征,如光掩线、光栅、正方形和圆形、沟槽、空间和分隔、线宽、图桉、设计和轮廓。该光学器件采用全场光学不相干和z-lifeline动态，以提高表面扫描的灵敏度。利用z-lifeline动态，该机即使是最小的缺陷也能检测到高精度和灵敏度。通过使用专门的模式识别软件，机器能够识别晶圆或掩模的顶部和底部表面的各种形状和结构。此软件还允许比较形状和图桉以保证质量,从而可以对曲面特征进行深入分析。软件可以区分成功完成的进程和存在问题或异常的进程。TENCOR 2131为质量控制工程师提供了进一步的分析和注释功能,并以点击格式提供数据,以帮助快速发现问题。利用内置的报告生成单元,这台机器可以精确、准确地报告结果。此外,软件还可以将结果与客户定义的光源、掩码和特定参数进行比较。2131 Mask and Wafer Inspection Machine允许在生产半导体元件和器件时具有卓越的精度和灵敏度。其先进的光学设备、模式识别软件和报告生成功能使其成为处理最精确组件的理想选择。这种精密的检查和测量工具能够可靠地检测不规则性，精确地比较形状和图桉，以保证质量。