二手 KLA / TENCOR 2131 #9404525 待售

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製造商
KLA / TENCOR
模型
2131
ID: 9404525
优质的: 1993
Wafer inspection system 1993 vintage.
KLA/TENCOR 2131掩模和晶圆检测设备提供高性能、最先进的半导体晶圆检测,用于扫描电子和光学显微镜,用于广泛的半导体制造应用。该系统旨在对光掩模和晶片上的缺陷进行精确检测和分类,可以对单个晶片上的多个缺陷进行准确分类。该设备专为生产环境而设计,可扩展以满足大容量晶圆检查任务的需要。KLA 2131机器具有先进的自动缺陷检测算法,可以检测断桥对、针孔和空隙等小缺陷,同时对点缺陷、微粒和条纹特征等其他缺陷类别进行分类。此工具的自动检测和分类工作流可以检测晶片上的各种缺陷,而无需引入额外的复杂性或人工操作,从而实现高吞吐量和可靠的性能。资产可以生成三维地形图像和定量光谱测量形式的详细数据,为用户提供有关制造过程的准确和可行的信息。该模型还提供了用于管理客户检测算法、将晶片分组以进行分析以及设置复杂故障模式分析的软件。该软件使用户能够定制其检查设备以满足其特定的应用需求并优化其流程。KLA专有的晶片处理技术可实现晶片的无缝、无空气处理,并可集成到现有的过程管理流程中。该系统先进的视觉单元结合自动运动控制,准确定位晶片上的缺陷,可以在不同基板高度之间快速移动,减少潜在的基板处理误差。TENCOR 2131还具有边缘照明和数字偏振技术,以抵消晶圆的无缺陷区域,使自动化机器能够更快地专注于关注的领域。此工具具有高度可配置性,可以进行定制以满足各种检查应用程序和流程的需求。总之,2131是检测和分类光掩模和晶片潜在缺陷的先进可靠资产。此模型为用户提供高吞吐量、详细数据以及集成的软硬件功能,从而实现优化和准确的缺陷检测和分类过程。
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