二手 KLA / TENCOR 2131E #9181395 待售

KLA/TENCOR 2131E Mask&Wafer Inspection Equipment是一种用于后端半导体集成电路制造的可靠、坚固的晶圆处理和光学检测系统。它以在进行彻底、全面的晶片和掩模检查时的性能和准确性而闻名。KLA 2131E具有自动晶片处理单元,可快速准确地移动和处理晶片。它采用先进的算法来分析光模式，然后对每个晶圆及其关联的掩模对准标记（MAM）进行高速测量，从而实现了这一点。机器还可以精确测量晶片和掩码上的误差,包括临界尺寸（CD）迭加、清晰字段和IPC-9151。TENCOR 2131 E拥有包括三台CCD相机的先进光学工具，用于获取晶圆和掩模的图像。这些相机动态范围大，对纳米级细节敏感。为了进一步提高设备的精度，KLA/TENCOR 2131 E还采用光学瞄准系统和激光模块来进行精确的晶圆配准。KLA 2131 E还包括一个用于实时检测缺陷的高功率图像分析资产。该模型能够检测到小于µm尺寸的缺陷,还可以检测到临界尺寸的任何细微变化。为了确保分析的准确性，该设备有一个综合探测系统和投影仪，用于精确的迭加测量。2131E具有用户友好的设计,其所有组件和过程都是自动化的,以实现最大程度的便利和效率。此外,该设备还能够读取各种类型的晶片,包括平板和领结形状,并配有可靠、全面的保修计划。总之，TENCOR 2131E是一个可靠、准确的掩模晶圆检测仪，设计用于后端半导体集成电路的制造。它的自动化晶圆处理机和先进的光学和图像分析系统，在每次检查过程中都能提供精确、准确和方便。