二手 KLA / TENCOR 2132 #293820147 待售

KLA/TENCOR 2132掩模和晶片检测设备是一种最先进的系统,旨在为掩模和晶片提供快速、可靠和经济高效的光学检测。KLA 2132 Mask和Wafer Inspection Unit结合先进的KLA表面检测系统和业界领先的自动缺陷分类和表征能力,是半导体制造设施寻求更高精度和生产效率的重要工具。TENCOR 2132 Mask and Wafer Inspection Machine为表面地形、光学故障分析和缺陷检测提供全面的三维成像显微镜。利用基于象限的图像采集和分析（QBIA）,该工具可以快速准确地检查大面积区域是否存在掩模或实际制造晶片上的缺陷、污染物和缺陷。该资产提供清晰的图像,即使对象小到4 µm,也非常适合检测可能导致模型故障的粒子、粒子和其他缺陷。除了提供先进的光学检查能力外，设备还提供先进的缺陷分类和表征。2132的嵌入式软件经过设计，可以根据形状和大小等因素快速准确地对缺陷进行分类。这使系统能够查明和隔离单个缺陷,加快表征过程,并允许快速诊断和纠正操作。KLA/TENCOR 2132 Mask and Wafer Inspection Unit还具有内置的自动校准功能,可让机器快速安装并随时使用。这有助于在设置用于不同任务的工具时节省时间、精力和挫折。KLA 2132 Mask and Wafer Inspection Asset的设计符合光学检查系统的SEMI标准,并以TENCOR业界领先的保修为后盾。这种最先进的检验模型是确保任何半导体制造设施的最佳生产效率和准确性的完美工具。