二手 KLA / TENCOR 2132 #9161994 待售

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KLA / TENCOR 2132
已售出
製造商
KLA / TENCOR
模型
2132
ID: 9161994
优质的: 1992
Wafer inspection system 1992 vintage.
KLA/TENCOR 2132是为高灵敏度和准确度而设计的先进的掩模和晶圆检测设备。该系统采用获得专利的傅立叶变换干涉测量(FTI)技术进行缺陷检测和分类,包括集成缺陷审查、故障隔离和模式识别单元。该单元具有用户友好的图形用户界面以及高级成像和分析功能。掩模和晶片检测机包括三个主要组成部分:扫描仪、成像工具和图像处理系统。扫描仪是一种基于FTI的高分辨率成像资产,能够捕获晶圆的自上而下和横截面图像。这样可以确保准确检测、识别和解决缺陷。该成像模型包括一种先进的光学显微镜技术,能够显示晶圆表面的精细细节。该设备还包括一个模拟模块,允许用户精确地绘制出一个平面表面并预测缺陷的影响。图像处理系统根据类别和大小对缺陷进行检测和分类。它还将它们分成各种缺陷类。它对缺陷的形状、大小和强度进行分类,还可以识别和区分常见的特征如点、线、曲线、空心和岛。该系统可以很容易地检测晶圆内的异常,并有助于确定哪些需要进一步检查或修复。缺陷面板分辨率为0.5µm,能够在像素级别进行检测。该单元还能够根据大小、形状、拓扑、方向和相对运动对缺陷进行分类。门映射功能允许用户在其样本位置查看阈值、过滤和识别关键缺陷。机器还包括自动缺陷审查功能。这允许自动比较预期结果和实际结果,因此可以快速识别出任何差异。还包括一个微观级别的故障隔离工具,这有助于减少潜在的遗漏缺陷或误报。最后,该单元提供了强大的模式识别资产。这为用户提供了晶圆的全面视图,以及一次检测和分类多个缺陷模式的能力。例如,它可以区分不同类型的图样化缺陷,例如短裤和打开。KLA 2132掩模和晶片检测模型旨在为用户提供一个用于检测、分析和修复掩模和晶片缺陷的强大设备。其先进的成像和图像处理能力,使得缺陷检测和分类的高度敏感和准确的方法。自动缺陷审查和模式识别系统有助于减少潜在的缺失和误报,使此系统非常适合确保产品的最高质量。
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