二手 KLA / TENCOR 2133 #9150400 待售
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ID: 9150400
优质的: 1997
Wafer inspection system
Equipment specifications:
Voltage: 120 Volts
Frequency: 50/60 HERTZ
(3) Phase
Current: 25 AMPS
(2) Wafer cassette loading platforms
Independent load / Unload control per station
Robotic wafer handler
1997 vintage.
KLA/TENCOR 2133掩模和晶片检验设备是一种综合性、高精度、自动化的检测系统，旨在检测和识别光掩模和半导体晶片中的缺陷。该装置使用先进的自动显微镜进行操作，以扫描该区域的微观颗粒、污染物、不规则性或缺陷。然后将显微镜产生的图像与既定标准进行比较，确定图样是否可以接受或需要固定。KLA 2133 Mask&Wafer Inspection Machine具有先进的光路,可确保最高级别的缺陷检测和准确性。该工具包括用于自动和手动图像优化的高级自动对焦机构、用于改进图样对比度和清晰度的高级照明技术,以及提供异常精确缺陷识别的一套独特缺陷检测算法。资产中还包括一套多用途的检查、验证和分析功能,这些功能允许快速轻松地监控缺陷并进行性能分析。TENCOR 2133掩码和晶圆检测模型经过优化,可用于逻辑和内存产品中的复杂缺陷结构。设备能精确检测0.5至5微米大小的临界缺陷，还能检测到亚微米结构。此外,系统还提供了一个集成的缺陷分析包,以便进行详细的调查和缺陷诊断。该设备还提供了缺陷结果的完全可追踪性,从而改进了缺陷可见性和过程控制。2133 Mask&Wafer Inspection Machine还提供自动化图像生成、缺陷数据记录、用户友好软件、直观报告和用户可编程功能等多种功能。此外,该工具还提供了集成的校准资产和增强的3-D功能,以增强缺陷监控。总体而言，KLA/TENCOR 2133掩模和晶片检验模型是一种坚固、高精度、自动化的检测设备，设计用于检测和识别光掩模和半导体晶片中的缺陷。该系统具有先进的光学、缺陷检测算法和复杂的分析功能等功能,为确保电子产品的质量和可靠性提供了理想的解决方桉。
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