二手 KLA / TENCOR 2135 #192496 待售
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ID: 192496
晶圆大小: 6"
优质的: 2000
Patterned wafer defect inspection system, 6"
Handler: 6" open cassette (x2)
Cassette handling: vacuum handling open handler
Robot: KLA robot, single end-effector
Inspection station module: KLA2135-IS
User interface module: KLA2135-UI
Chuck type: low contact (dimpled)
Light spectrum: visible 2.9
Pixel size in um: 0.62, 0.39, 0.25
CE Marked
PC configurations:
CPU: PII 300 MHz
Memory: 512M
OS: Windows NT
3.5” floppy drive
Application software: version 5.3.084
GEM/SESC (HSMS)
Network comm.: BNC, Ethernet (Cat 5)
Fan (blower) Unit
Remote power disconnect panel
Facilities:
Line conditioner: 208 V, 50 A, 3 phase, 50/60 Hz
Inspection station: CDA 80 PSI measured at the main system regulator
Performance requirement:
DSW75 capture rate > 90%.
DSW75 repeatability > 95%
User Manual
2000 vintage.
KLA/TENCOR 2135是一种提供高精度缺陷检测的掩模和晶圆检测设备，利用先进的算法技术检测和测量任何基板上的颗粒级污染。该系统提供卓越的图像质量、快速的吞吐量和改进的过程优化。KLA 2135提供了出色的动态范围图像，并使用了多种高分辨率扫描技术，如激光扫描、电子束扫描和参数分析。TENCOR 2135单元提供了多种高性能功能,能够准确、可靠地检查电子元件。该机能够检测具有高质量图像的亚纳米缺陷。这使得它非常适合检测和测量各种与过程相关的缺陷，如颗粒污染、空隙、划痕和其他光学污染物。该工具还提供业界领先的扫描仪技术和先进的图像分析算法,以实现高产率、准确的审查和相移分析。资产的高级缺陷分类功能使用户能够识别和分类表面级缺陷,而其多光谱成像技术可确保能够以准确的结果检查各种掩模类型。该模型还提供了自动化的流程优化功能,允许用户根据从任何映像过程中获得的结果快速分析和优化流程。2135设备还具有较高的吞吐量检查能力,能够快速高效地扫描,无需人工干预。它还具有内置缺陷跟踪和文档记录系统,允许用户跟踪和查看来自多个图像的缺陷。为确保缺陷检测和比较准确可靠，KLA/TENCOR 2135单元采用先进算法进行缺陷检测和表征。这些算法旨在最大限度地提高缺陷识别和鉴定过程中的效率和准确性，确保卓越的图像质量和改进的过程优化。总体而言,KLA 2135机器是制造环境中缺陷检测和表征的先进且经济高效的解决方桉。它提供高精度的缺陷检测,具有出色的图像质量和快速的吞吐量,以及自动化的过程优化和高效的缺陷跟踪。通过将质量和性能相结合，TENCOR 2135工具是任何寻求先进、高效、可靠的掩模和晶圆检测资产的制造商的理想选择。
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